| 品牌 | 其他品牌 | 升温速度（达到最高温） | 60/min |
|---|---|---|---|
| 内部尺寸 | φ100mm | 加热方式 | 合金电阻丝 |
| 最大功率 | 3500kW | 控温精度 | ±1℃℃ |
| 最高温度 | 1200℃ | 价格区间 | 面议 |
| 仪器种类 | 管式炉 | 产地类别 | 国产 |
| 应用领域 | 环保,化工,生物产业,制药 |
单温区滑杆式PECVD系统
一、PECVD系统组成：
单温区滑杆式PECVD系统由滑竿式真空管式炉、石英真空室、射频电源、供气系统、抽气系统、真空测量系统组成。
二、系统特点：
1、通过射频电源把石英真空室内的气体变为离子态
2、PECVD比普通CVD进行化学气相沉积所需的温度更低
3、可以通过射频电源的频率来控制所沉积薄膜的应力大小
4、单温区滑杆式PECVD系统比普通CVD进行化学气相沉积速率高、均匀性好、一致性和稳定性高
5、广泛应用于：各种薄膜的生长
三、系统组成
1、HGSK2-10-12DZ单温区滑竿式管式炉
1.1、炉管尺寸：φ100*1800mm
1.2、炉管材质：石英玻璃
1.3、外型尺寸：1800*460*660mm
1.4、温区数量：单温区
1.5、设计温度：1200℃
1.6、电源功率：AV200V\50Hz；3.5kw
1.7、滑轨材质：不锈钢
1.8、滑动方式：手动不锈钢滚珠轴承
1.9、控温仪表：智能30段程序控温仪表
1.10、控温精度：±1℃
1.11、加热区长度：400mm
1.12、控制方式：可控硅触发控制
1.13、热电偶：K型
1.14、安全措施：超温、过压、过流
1.15、真空密封：不锈钢法兰
2、射频电源（等离子发生器）
2.1、功率范围：0-500w
2.2、最大发射功率：200w
2.3、射频宽度：0-600mm
2.4、射频接口：50Ω N-TYPE
2.5、射频工作频率：13.56MHZ
2.6、电源：AC220v、50Hz
3、供气系统
3.1、双路质子流量供气系统
3.2、质子流量计流量范围可选
3.3、进出气接口：标配双卡套不锈钢接头
3.4、供气系统压力范围：0.1-0.5MPa
3.5、混气室：φ50*400mm
3.6、接口规格：φ6 1/4"
4、真空抽气系统：
4.1、真空泵FX-16
4.1.1、极限压强：4*10-2Pa
4.1.2、进气接口：KF25
4.1.3、电机转速：1440RPM
4.1.4、抽气速率：4L/S
4.1.5、电机功率：550w
4.2、电阻真空计ZDR-1
4.2.1、功率：25w
4.2.2、真空度范围：0.1-10*5Pa
4.2.3、电阻硅：ZJ-52T
HGSK2-10-12DZ-PECVD单温区滑竿式PECVD系统配置：
单温区滑竿式管式炉一台、射频电源一套、两路质子流量供气系统一套、抽真空系统一套
