CVD是化学气相沉积的英文简写，本公司生产的单温区CVD管式炉系统是利用管式炉加热，把构成固态沉积物的气态反应剂或液态反应剂的蒸气及反应所需其它气体引入炉管内，在炉管内使气态或蒸汽状态的化学物质在气相或气固界面上经化学反应形成固态沉积物的技术。

1200℃单温区转动管式炉（管径25mm）,又称为旋转式管式真空气氛炉、旋转式管式气氛炉等，微型化设计，特别适用于小批量样品的使用，空间占用少，是高校、科研院所、工矿企业做电池正负极材料烧结、催化剂氢气还原、粉体和颗粒料翻转烧结的理想产品。 RSK2-2.5-12DZ转动管式炉设计温度1200℃，石英炉管、中间粗两端细，内置物料拨齿方便翻动物料。

1200℃三温区转动管式炉,又称为旋转式管式真空气氛炉、旋转式管式气氛炉等，是电池正负极材料烧结、催化剂氢气还原、粉体和颗粒料翻转烧结的理想产品；RSK2-12-12DZT三温区转动管式炉炉管采用石英管，中间粗两端细的结构，规格φ120*2000mm（中间φ200*900mm），三温区独立控制设计，配置三组独立智能程控系统；电动无级变速转动控制，转速可调；配置电动液压升降系统

RSK2-6-15DZD双温区转管式真空气氛管式炉采用一体化设计，开启式炉体，陶瓷纤维炉膛，硅碳棒加热；炉管采用刚玉炉管；电动转动，速度可调；独立双温区设计，独立控温

RSK2-12DZ单温区转管式真空气氛管式炉采用一体化设计，开启式炉体，陶瓷纤维炉膛，合金加热丝；炉管采用石英玻璃，炉管采用中间粗两端细的设计，内置搅拌隔断；电动转动，速度可调；升降式炉体设计方便进出料；